专利摘要显示,本发明提供一种等离子体处理装置,其包含:真空反应腔,其内有可升降下电极组件,真空反应腔底壁设有射频屏蔽基板;射频导杆,其顶端与下电极组件下方电连接;可伸缩密封组件,其沿射频导杆的轴向伸缩,且设在可升降下电极组件和真空反应腔底壁之间;屏蔽传动组...
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